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工信部官宣!我國正式突破7nm光刻技術(shù)
來源: | 作者:上海雋思半導(dǎo)體設(shè)備部 | 發(fā)布時間: 2024-09-20 | 1054 次瀏覽 | 分享到:

      近日,  工業(yè)和信息化部正式發(fā)布了《首臺(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2024年版)》(以下簡稱《指導(dǎo)目錄》),這一舉措旨在推動我國重大技術(shù)裝備的創(chuàng)新發(fā)展和推廣應(yīng)用,同時加強產(chǎn)業(yè)、財政、金融、科技等國家支持政策的協(xié)同效應(yīng)。

值得注意的是,《指導(dǎo)目錄》中提到的氟化氬光刻機,代表了當(dāng)前全球半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的尖端技術(shù)。光刻機被譽為"芯片之母",是集成電路制造中最為關(guān)鍵的設(shè)備之一。能夠生產(chǎn)出如此高精度的光刻機,意味著我國在半導(dǎo)體制造裝備領(lǐng)域已經(jīng)取得了重大突破,為未來實現(xiàn)高端芯片的自主可控奠定了堅實基礎(chǔ)。

這一目錄的發(fā)布,不僅僅是一份簡單的技術(shù)指標(biāo)清單,更體現(xiàn)了我國在高端制造業(yè)領(lǐng)域的戰(zhàn)略布局。通過鼓勵和支持首臺(套)重大技術(shù)裝備的研發(fā)和應(yīng)用,我國旨在加速關(guān)鍵核心技術(shù)的突破,推動產(chǎn)業(yè)鏈向高端化、智能化方向發(fā)展,最終實現(xiàn)制造強國的宏偉目標(biāo)。

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